5G 등 중장기 수요 대응..2021년 하반기 양산

▲ 삼성전자 평택캠퍼스 P2 라인 전경 (사진제공=삼성전자)

 

[스페셜경제=최문정 인턴기자]삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하는 투자를 확정했다고 1일 밝혔다.

삼성전자는 “5월 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 클린룸 공사에 착수했으며 2021년 하반기 양산을 시작할 계획”이라며 “이번 투자는 AI, IoT 등 4차 산업혁명 도래와 5G 보급에 따른 중장기 낸드수요 확대에 대응하기 위해서”라고 설명했다.

특히 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19)로 인한 생산‧소비‧교육 등 삶의 전반에서 비대면 방식이 확산되는 가운데 삼성전자는 적극적인 투자로 미래 시장기회를 선점해 나간다는 전략이다.

평택캠퍼스는 지난 2015년 조성된 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지다. 현재 세계 최대 규모의 메모리 생산라인 2개가 가동 중이다. 삼성전자는 이번 투자를 통해 V낸드 제품 생산라인을 갖췄다.

최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질 없이 대응함으로써 국가경제와 글로벌 IT산업 성장에 기여할 것"이라고 밝혔다.

삼성전자의 낸드플래시 생산라인은 국내엔 화성과 평택, 해외엔 중국 시안에서 운영 중이다. 국내외 생산라인을 운영해 안정적인 글로벌 공급망을 유지하고 시장리더십을 강화할 계획이다.

한편 삼성전자는 지난 2002년 낸드플래시 시장 1위에 올랐다. 또한 지난 해 7월엔 업계 최초로 6세대(1xx단) V낸드 제품을 양산한 바 있다.

 

스페셜경제 / 최문정 인턴기자 muun09@speconomy.com 

 

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